印制電路板（PCB）廢水處理方法

1.脫模顯影廢液。脫模顯影廢液主要為顯影、濕膜顯影工序產(chǎn)生的含油大量油墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法：一種為酸析法，利用分流出來(lái)的廢酸液摻混進(jìn)行攪拌，在酸性條件下（pH2.5~3.0），大多有機污染物可以析出：另一種催化法，將反應池中的廢水pH值調至2.5，向池中分別投加FeSO4催化劑、H2O2強氧化劑，反應一定時(shí)間后，消化分解廢液中的有機物，清液自動(dòng)流入有機廢水調節池進(jìn)行后續處理。

2.含氰廢水。此類(lèi)廢水主要來(lái)自沉金工序的清洗過(guò)程。廢水主要含有COD及重金屬與氰形成的絡(luò )合物（Cu2+、Au2+、CN-）等污染物。此類(lèi)廢水必須進(jìn)行破氰處理，可采用堿性氯化法，在堿性條件下，分批投入NaClO氧化劑，使絡(luò )合物中的氰離子釋放出來(lái)，經(jīng)過(guò)兩級反應，使CN-離子生成穩定無(wú)毒的CO2和N2，從而達到去除CN-的目的。主要反應式如下：

CN^-+ClO^-+H₂O=CNCl↑+2OH^-

CNCl+2OH^-=CNO^-+Cl^-+H₂O

2CNO^-+3ClO^-+H₂O=2CO₂↑+N₂↑+3Cl^-+2OH^-

式①②為一級氧化反應，式③為二級氧化反應。式①產(chǎn)物氯化氫CNCl為易揮發(fā)的有毒物質(zhì)，且在酸性條件下不穩定。式②反應需控制pH值為11.0~12.0，ORP=350mV，反應時(shí)間一般在15min內。式③反應需控制pH值為7.0~7.5，ORP=650mV，反應時(shí)間為30min。

3.在堿性條件下采用Na2S沉淀工藝。比較CuS、Cu(OH)2的溶度積，lgKsp(CuS)=35.2，lgKsp(Cu(OH)2)=19.66。可見(jiàn)金屬硫化物的穩定常數大，易于沉淀，除銅效率高，且適用的值范圍大（pH值為9.5~11.0）。由于金屬硫化物在酸性條件下不穩定，容易產(chǎn)生有毒氣體H2S，因此反應不能在酸性條件下進(jìn)行。含氰廢水處理后排入綜合池。

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